Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀利用光譜反射原理，可以測量厚度達到3毫米的眾多半導體及介電層薄膜。相對于較薄的膜層，這種厚膜的表面較粗糙且不均勻，F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測量光斑，從而可以容易地測量其他膜厚測量儀器不能測量的膜層，并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測量、護涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀利用光譜反射原理，可以測量厚度達到3毫米的眾多半導體及介電層薄膜。相對于較薄的膜層，這種厚膜的表面較粗糙且不均勻，F(xiàn)3-sX系列膜厚儀配置10微米的測量光斑，從而可以容易地測量其他膜厚測量儀器不能測量的膜層，并且僅在幾分之一秒內(nèi)完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測量、護涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優(yōu)異表現(xiàn)。
非接觸測量：避免損傷薄膜，適用于脆弱或敏感材料；
多場景適用性：基本上光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測量。
測量速度快：配置完成后，數(shù)秒內(nèi)即可完成測量。
采用近紅外光(NIR)來測量膜層厚度，因此可以測試一些肉眼看是不透明的膜層
配件包括自動繪圖平臺、測量點可視化攝像機，和可見光擴展波段選項
當入射光穿透不同物質(zhì)的界面時將會有部分的光被反射，由于光的波動性導致從多個界面的反射光彼此干涉，從而使反射光的多波長光譜產(chǎn)生震蕩的現(xiàn)象。從光譜的震蕩頻率，可以判斷不同界面的距離進而得到材料的厚度（越多的震蕩代表越大的厚度），同時也能得到其他的材料特性如折射率與粗糙度。
薄膜特性：厚度、反射率、透射率、光學常數(shù)、均勻性、刻蝕量等
薄膜種類：透明及半透明薄膜，常見如氧化物、聚合物甚至空氣
薄膜狀態(tài)：固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)薄膜都可以測量
薄膜結(jié)構(gòu)：單層膜、多層膜；平面、曲面
顯示技術(shù) | 消費電子 | 派瑞林 | |
光刻膠 | OLED | 防水涂層 | 電子產(chǎn)品/電路板 |
介電層 | ITO和TCOs | 射頻識別 | 磁性材料 |
砷化鎵 | 空氣盒厚 | 太陽能電池 | 醫(yī)學器械 |
微機電系統(tǒng) | PVD和CVD | 鋁制外殼陽極膜 | 硅橡膠 |
波長范圍： | 1280-1340nm | 光源： | 200KMTBFSLED |
厚度測量范圍n=1.5： | 15um-2mm | 厚度測量范圍n=3.5： | 7um-1mm |
光斑大小： | 標準工作距離53mm | 測量精度： | 5nm |
